Sähköposti: 
Tel:+86-13486478562
Kieli Tuotekonsultointi
Sähköpostiosoitettasi ei julkaista. Vaadittavat kentät on merkitty *
Tyhjiöhaihdutuskalvon on lämmittää haihduttaminen tiettyyn lämpötilaan vastuslämmittämällä tai elektronisäteellä ja laserpommituksella ympäristössä, jonka tyhjiöasteella on vähintään 10-2PA, niin että materiaalin molekyylien tai atomien lämpöväristysenergia ylittää pinnan. Siksi suuri määrä molekyylejä tai atomeja haihdutetaan tai sublimoitiin ja kerrostetaan suoraan substraattiin ohuen kalvon muodostamiseksi. Ionien ruiskutuspinnoitteen on käytettävä kaasunpurkauksen aiheuttamien positiivisten ionien korkeaa liikettä sähkökentän toiminnan alla kohteen pommittamiseksi katodiksi siten, että kohteen atomit tai molekyylit paetavat ja kerrostuvat työkappaleen pinnalle, muodostaen vaaditun kalvon.
Yleisesti käytetty menetelmä tyhjiöhaihdutuspinnoitteeseen on resistenssin lämmitysmenetelmä, jolla on lämmityslähteen yksinkertaisen rakenteen edut, edulliset ja kätevät toiminnan. Elektronisäteen lämmitys ja laserlämmitys voivat voittaa resistenssilämmityksen puutteet. Elektronisäteen lämmityksessä pommitetun materiaalin lämmittämiseen käytetään keskittynyttä elektronisädettä, ja elektronisäteen kineettinen energia tulee lämpöenergiaa materiaalin haihduttamiseksi. Laserlämmitys käyttää suuritehoista laseria lämmityslähteenä, mutta suuritehoisten laserien korkeiden kustannusten vuoksi sitä voidaan käyttää vain muutamassa tutkimuslaboratoriossa.
Sputtering -tekniikka eroaa tyhjiön haihtumistekniikasta. "Sputtering" viittaa ilmiöön, jossa energiset hiukkaset pommittavat rungon pintaa (kohde), aiheuttaen kiinteiden atomien tai molekyylien poistumisen pinnalta. Poistuneista hiukkasista on atomitilassa, jota kutsutaan usein sputteroiduiksi atomeiksi. Kohteen pommittamiseen käytetyt ruiskuttavat hiukkaset voivat olla elektroneja, ioneja tai neutraaleja hiukkasia, koska ionit kiihtyy helposti sähkökentän alla vaaditun kineettisen energian saamiseksi, joten ioneja käytetään enimmäkseen pommituspartikkeleina. Sputterointiprosessi perustuu hehkuvuotoon, ts. Sputterointi -ionit ovat peräisin kaasun purkamisesta. Eri ruiskutustekniikat käyttävät erilaisia hehkupoistomenetelmiä. DC-kaksi napainen ruiskutus käyttää tasavirta-hehkua; Kolmen napainen ruiskutus käyttää hehkuvapautta, jota tukee kuuma katodi; RF-sputtering käyttää radiotaajuista hehkuvapautta; Magnetronisputterointi käyttää hehkuvapautta rengasmaisen magneettikentän ohjauksessa. kevyt purkaus.
Verrattuna tyhjiön haihtumispinnoitteeseen, ruiskutuspäällysteellä on monia etuja. Esimerkiksi mikä tahansa aine voidaan ruiskuttaa, etenkin elementit ja yhdisteet, joilla on korkea sulamispiste ja matala höyrynpaine; hyvä tarttuvuus sputteroidun kalvon ja substraatin välillä; korkea kalvotiheys; Kalvon paksuus ja hyvä toistettavuus. Haittana on, että laitteet ovat monimutkaisempia ja vaativat korkeajännitelaitteita. Lisäksi haihdutusmenetelmän ja ruiskutusmenetelmän yhdistelmää kutsutaan ionipinnoitteeksi. Tämän menetelmän etuna on, että saatulla kalvolla on voimakas tarttuvuus substraatin ja substraatin välillä, ja sillä on korkea laskeumaprosentti ja korkea kalvotiheys.
Vuonna 2007 perustettu aikaisempi nimi Huahong -tyhjiötekniikka on ammattimainen Kiinan jatkuva magnetronin sputterointikoneiden toimittajat ja Jatkuva magnetronin sputterointikoneiden toimittajat , mukaan lukien, mutta niihin rajoittumatta, ruiskutusjärjestelmät, optiset pinnoitusyksiköt, erämetallisaattorit, fysikaaliset höyryn laskeutumisjärjestelmät (PVD), kovat ja kuluvat kestävät tyhjiöpäällystyslaitteet, lasi, PE, PC-substraattipäällystimet, rullausrullikoneet joustavien substraattien päällystämiseksi. Koneita käytetään laajaan valikoimaan alla kuvattuja sovelluksia (mutta niihin rajoittumatta) auto-, koristeellisia, kovia pinnoitteita, työkalu- ja metallileikkauspinnoitteita ja ohutkalvojen pinnoitesovelluksia teollisuus- ja laboratorioille, mukaan lukien yliopistot.Danko Vacuum Technology Company LTD on sitoutunut laajentamaan markkinoiden rajanraja-alueemme tarjoamalla korkealaatuisia, korkean suorituskyvyn ja kokonaisuuden jatkuvaa magnetronia koskevaa konepoliittisia hintoja. Yrityksemme keskittyy voimakkaasti myynnin jälkeisiin palveluihin kotimaisten ja kansainvälisten markkinoiden tarjoamiseen, tarjoamalla tarkkoja osankäsittelyuunnitelmia ja ammatillisia ratkaisuja asiakkaiden tarpeiden tyydyttämiseksi.
Vuonna 2007 perustettu aikaisempi nimi Huahong -tyhjiötekniikka on ammattimainen Kiinan jatkuva magnetronin sputterointikoneiden toimittajat ja Jatkuva magnetronin sputterointikoneiden toimittajat , mukaan lukien, mutta niihin rajoittumatta, ruiskutusjärjestelmät, optiset pinnoitusyksiköt, erämetallisaattorit, fysikaaliset höyryn laskeutumisjärjestelmät (PVD), kovat ja kuluvat kestävät tyhjiöpäällystyslaitteet, lasi, PE, PC-substraattipäällystimet, rullausrullikoneet joustavien substraattien päällystämiseksi. Koneita käytetään laajaan valikoimaan alla kuvattuja sovelluksia (mutta niihin rajoittumatta) auto-, koristeellisia, kovia pinnoitteita, työkalu- ja metallileikkauspinnoitteita ja ohutkalvojen pinnoitesovelluksia teollisuus- ja laboratorioille, mukaan lukien yliopistot.Danko Vacuum Technology Company LTD on sitoutunut laajentamaan markkinoiden rajanraja-alueemme tarjoamalla korkealaatuisia, korkean suorituskyvyn ja kokonaisuuden jatkuvaa magnetronia koskevaa konepoliittisia hintoja. Yrityksemme keskittyy voimakkaasti myynnin jälkeisiin palveluihin kotimaisten ja kansainvälisten markkinoiden tarjoamiseen, tarjoamalla tarkkoja osankäsittelyuunnitelmia ja ammatillisia ratkaisuja asiakkaiden tarpeiden tyydyttämiseksi.
Tel: +86-13486478562
FAX: +86-574-62496601
Sähköposti: 
Address: Nro 79 West Jinniu Road, Yuyao, Ningbo City, Zhejiang Provice, Kiina