Mikä on kontrasti sputteroitujen ja haihtuneiden pinnoitteiden välillä？

PVD （Fysikaalinen höyryn laskeumatekniikka on yksi tärkeimmistä tekniikoista ohuiden kalvomateriaalien valmistukseen. Tyhjiöolosuhteissa materiaali höyrystyy kaasumaisiin atomeihin, molekyyleihin tai osittaisiksi ionisoituneiksi ioneiksi ja talletetaan sitten substraattimateriaalien pinnalle matalapainekaasun (tai plasman) prosessin avulla, jolla on ominaispiirteitä, heijastus, suojaava johtavuus, magneettinen johtavuus, eristys, korrosioiden resistenssi, hapettumiskestävyys. Ohu -kalvomateriaalin valmistukseen käytettyä materiaalia kutsutaan PVD -pinnoitusmateriaaliksi. Sputtering pinnoite ja tyhjiöhaihdutuspäällyste ovat kaksi suosittua PVD: tä DLC -päällystyskoneen valmistajat Pinnoitusmenetelmät.

Sputteroitujen ja haihdutettujen pinnoitteiden vertailu

Sputtering -laskeutumistekniikassa on hyvä toistettavuus ja hallittavissa oleva kalvon paksuus, jota voidaan käyttää suurten alueen substraattimateriaaleilla, joiden paksuus on tasainen. Valmistetuilla kalvoilla on korkea puhtaus, hyvä kompakti ja vahva tarttuvuus substraattimateriaaleilla, joista on tullut yksi tärkeimmistä tekniikoista ohutkalvojen materiaalien valmistukseen. Erityyppisiä ruiskuttavia ohutkalvomateriaaleja on käytetty laajasti, ja korkean arvonlisäaineiden funktionaalisten materiaalien kysyntä kasvaa vuosi vuodelta. Sputtering -tavoitteesta on tullut markkinoilla laajalti käytetty PVD -pinnoitusmateriaali.

Haihdutuspäällyste on yksinkertainen ja kätevä, helppo käyttää ja nopeasti muotoilemaan elokuvaa. Prosessien valmistuksen näkökulmasta haihtuneiden materiaalien valmistus monimutkaisuus on paljon pienempi kuin ruiskuttamiskohteet, ja haihtumispinnoittoa käytetään usein pienikokoisten substraattimateriaalien päällysteessä.

Jos haluat tietää enemmän, voit myös ottaa meihin yhteyttä.

Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

Sara

Puhelin: 86-15867869979

Sähköposti: [email protected]

WeChat: 15867869979

Whatsapp: 86-15867869979

www.pvd-coatingmachine.com